就在深圳華為於近期IEEE ISCAS會議上宣稱找到先進半導體生產突破性路徑後不久，川普政府隨即表達擔憂，指荷蘭晶片設備巨頭ASML的一台極紫外光刻（EUV）機器可能已落入中國之手。

彭博報導，商務部長霍華德·盧特尼克已表達擔憂，認為ASML的一台EUV機器可能在美國主導的出口管制下仍流入中國。

ASML對盧特尼克的說法予以反駁，解釋其用於在先進電腦晶片上印製最微細電路圖案的EUV機器，均未落入中國人之手。此報導引用了匿名消息人士的說法，以描述私下對話內容。

ASML表示，其全球314台運行中的EUV機器均有據可查。

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此爭議為ASML帶來壓力，阿姆斯特丹股市週五盤中跌幅最高達2%。今年以來，受AI及資料中心建設敘事推動，股價累計漲幅最高達81%。

以下是花旗分析師安德魯·賈德納對美國政府與ASML爭議的初步看法：

彭博情報分析師若杉正廣評論：

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美國的擔憂或反映出中國在先進晶片開發上的進展，尤其是華為上月宣布半導體生產取得潛在突破之後。